NiV Sputtering Target Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida

Sovint s'aplica l'or a la deposició de la capa de circuit integrat, però sovint es forma un compost de baixa fusió AuSi si l'or es combina amb silici, cosa que provocaria la soltura entre les diferents capes.El níquel pur és una bona opció per a la capa adhesiva, mentre que també es requereix una capa de barrera entre la capa de níquel i or per evitar la proliferació.El vanadi podria satisfer perfectament aquest requisit amb un alt punt de fusió i una capacitat de suport d'alta densitat d'amperes.Per tant, el níquel, el vanadi i l'or són tres materials que solen aplicar-se a la indústria de circuits integrats.Níquel Vanadi Sputtering Target es fabrica afegint vanadi al níquel fos.Amb un ferromagnetisme baix, és una bona opció per a la polverització de magnetrons de productes electrònics, que podrien produir una capa de níquel i una capa de vanadi alhora.