Siliciur de tungstè

El siliciur de tungstè WSi2 s'utilitza com a material de descàrrega elèctrica en microelectrònica, derivació de cables de polisilici, recobriment anti-oxidació i recobriment de filferro de resistència.El siliciur de tungstè s'utilitza com a material de contacte en microelectrònica, amb una resistivitat de 60-80μΩcm.Es forma a 1000°C.Normalment s'utilitza com a derivació per a línies de polisilici per augmentar la seva conductivitat i augmentar la velocitat del senyal.La capa de siliciur de tungstè es pot preparar mitjançant deposició química de vapor, com ara la deposició de vapor.Utilitzeu monosilà o diclorosilà i hexafluorur de tungstè com a gas de matèria primera.La pel·lícula dipositada no és estequiomètrica i requereix un recuit per transformar-se en una forma estequiomètrica més conductora.

El siliciur de tungstè pot substituir la pel·lícula de tungstè anterior.El siliciur de tungstè també s'utilitza com a capa barrera entre el silici i altres metalls.

El siliciur de tungstè també és molt valuós en sistemes microelectromecànics, entre els quals el siliciur de tungstè s'utilitza principalment com a pel·lícula fina per a la fabricació de microcircuits.Amb aquesta finalitat, la pel·lícula de siliciur de tungstè es pot gravar amb plasma utilitzant, per exemple, siliciur.

Rich Special Materials s'especialitza en la fabricació d'objectius de pulverització i podria produir materials de siliciur de tungstè segons les especificacions dels clients.Per a més informació, poseu-vos en contacte amb nosaltres.