Tots sabem que hi ha moltes especificacions de l'objectiu de polverització,que té awide gamma d'aplicació.TLes varietats objectiu que s'utilitzen habitualment en diferents indústries també són diferents, avui anem amb PequínRichmat junts per conèixer la classificació de la indústria objectiu de la poltrona.
一,Definició de material objectiu de polverització
La pulverització és una de les principals tecnologies per preparar materials de pel·lícula fina.Utilitza els ions generats per la font d'ions per formar un feix d'ions amb energia d'alta velocitat mitjançant l'agregació accelerada al buit. La superfície sòlida bombardejada, els ions i els àtoms de superfície sòlida tenen intercanvi d'energia cinètica, de manera que els àtoms de la superfície sòlida deixen el sòlid i es dipositen sobre A la superfície del substrat, el sòlid bombardejat és la matèria primera per preparar la pel·lícula dipositada per sputtering, coneguda com a objectiu de sputtering.
二、Classificació del camp d'aplicació dels materials diana de pols
1、Objectiu de semiconductors
(1)Material d'ús habitual:Els objectius comuns en aquest camp inclouen tàntal, coure, titani, alumini, or, níquel i altres metalls d'alt punt de fusió.
(2)Ús：Bàsicament s'utilitza a les dades originals crucials del circuit integrat
(3)Requisits funcionals：Els requisits tècnics de puresa, mida i integració són alts.
2,Material objectiu per a la visualització plana
(1)Material d'ús habitual：Els objectius que s'utilitzen habitualment en aquest camp inclouen alumini/coure/molibdè/níquel/niobi/silici/crom, etc.
(2)Ús：Aquest tipus de material objectiu s'utilitza principalment en diversos tipus de pel·lícules de gran àrea de televisió i portàtils。
(3)Requisits funcionals：Alts requisits de puresa, gran àrea, uniformitat, etc.
3、Objectius per a cèl·lules solars
(1)Material d'ús habitual：Els objectius d'alumini/coure/molibdè/crom/ITO/Ta s'utilitzen habitualment a les cèl·lules solars.
(2)Ús：S'utilitza principalment en "capa de finestra", capa de barrera, elèctrode i pel·lícula conductora i altres ocasions。
(3)Requisits funcionals：Alt requisit d'habilitat, àmplia gamma d'ús.
4、Material de destinació per a l'emmagatzematge d'informació
(1)Material d'ús habitual：Emmagatzematge d'informació que s'utilitzen habitualment en materials objectiu de cobalt/níquel/ferroaliatge/crom/tel·li/seleni.
(2)Ús：El material objectiu aquí s'utilitza principalment per al cap, la capa mitjana i la capa inferior del cd-rom i el CD.
(3) Requisits funcionals：Es requereix una alta densitat d'emmagatzematge i una alta velocitat de transmissió.
5、Material objectiu per a la modificació d'eines
(1)Material d'ús habitual：Modificació d'eines d'aliatge de titani / zirconi / gelosia / crom-alumini i altres objectius.
(2)Ús:Normalment s'utilitza per millorar l'aspecte.
(3)Requisits funcionals：Alts requisits funcionals, llarga vida útil.
6、Materials de destinació per a dispositius electrònics
(1)Material d'ús habitual:Els objectius d'aliatge d'alumini / siliciur s'utilitzen habitualment en dispositius electrònics
(2)Ús：S'utilitza generalment per a resistències i condensadors de pel·lícula.
(3)Requisits funcionals：Mida petita, estabilitat, coeficient de temperatura de baixa resistència
Hora de publicació: 21-abril-2022