El revestiment al buit en la selecció de materials objectiu de sputtering ha estat un problema per a la gent, en l'actualitat, ja que el recobriment sputtering, especialment el desenvolupament de les habilitats de revestiment de sputtering magnetrons, es pot dir que qualsevol informació es pot orientar a la preparació del material de pel·lícules primes. per bombardeig d'ions, ja que la polsada de material objectiu en el procés de recobriment al tipus de substrat té un efecte important en la qualitat de la pel·lícula de pulverització, per tant, els requisits del material objectiu són més estrictes.Aquí coneixerem el paper de l'objectiu de la polsada catòdica en el recobriment al buit juntament amb l'editor de Beijing Relaxation
一、Principi de selecció i classificació del material objectiu
En la selecció del material objectiu, a més de l'ús de la pel·lícula, també s'han de tenir en compte els problemes següents:
Problema 1. Segons els requisits d'ús i rendiment de la membrana, és necessari que el material objectiu compleixi els requisits tècnics de puresa, contingut de la revista, uniformitat dels components, precisió de mecanitzat, etc.
Problema 2. El material objectiu ha de tenir una bona resistència mecànica i estabilitat química després de la formació de la pel·lícula;
Problema 3. És necessari que el material de la pel·lícula generi fàcilment una pel·lícula composta amb el gas de reacció com a pel·lícula reactiva de pulverització;
Problema 4. Cal establir que l'objectiu i la matriu siguin forts, en cas contrari, s'hauria d'adoptar el material de pel·lícula amb una bona adherència a la matriu, primer espolvorear una capa de pel·lícula inferior i després preparar la capa de pel·lícula necessària;
Pregunta 5. Amb la premissa de complir els requisits de rendiment de la pel·lícula, com més petita sigui la diferència entre el coeficient d'expansió tèrmica de l'objectiu i la matriu, millor, per reduir la influència de l'estrès tèrmic de la pel·lícula de pulverització;
Preparació de diversos objectius d'ús habitual
(1) objectiu cr
El crom com a material de pel·lícula sputtering no només és fàcil de combinar amb el material base té una alta adherència, i la pel·lícula CrQ3 de crom i òxid, les seves propietats mecàniques, resistència a l'àcid i estabilitat tèrmica són millors.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. es dedica principalment a: objectiu de titani de zirconi, objectiu d'alumini, objectiu de níquel, objectiu de crom, objectiu de tungstè, objectiu de molibdè, objectiu de coure, objectiu de silici, objectiu de niobi, objectiu de tàntal, aliatge de titani-silici objectiu, objectiu d'aliatge de titani-niobi, objectiu d'aliatge de titani-tungstè, objectiu d'aliatge de titani-zirconi, objectiu d'aliatge de níquel-crom, objectiu d'aliatge de sílice-alumini, objectiu d'aliatge de níquel-vanadi, objectiu d'aliatge ternari de crom-alumini-silici, Ti al si Material objectiu d'aliatge ternari, àmpliament utilitzat en decoració/superfície dura i recobriment funcional, vidre arquitectònic, pantalla plana/fotoelèctrica òptica, emmagatzematge òptic, electrònica, impressió i altres professions.
Hora de publicació: Jun-02-2022