Els materials objectiu polsats tenen requisits elevats durant l'ús, no només per a la puresa i la mida de les partícules, sinó també per a la mida uniforme de les partícules.Aquests elevats requisits ens fan prestar més atenció quan utilitzem materials objectiu de pols.
1. Preparació per a la catòdica
És molt important mantenir la neteja de la cambra de buit, especialment el sistema de pols.Els lubricants, la pols i qualsevol residu de recobriments anteriors poden acumular contaminants com l'aigua, afectant directament el buit i augmentant la probabilitat de fallar en la formació de pel·lícules.Els curtcircuits, l'arc d'objectiu, les superfícies rugoses que formen pel·lícula i les impureses químiques excessives solen ser causats per cambres de pols, pistoles i objectius bruts.
Per tal de mantenir les característiques compositives del recobriment, el gas de pulverització (argó o oxigen) ha d'estar net i sec.Després d'instal·lar el substrat a la cambra de pulverització, cal extreure aire per aconseguir el nivell de buit necessari per al procés.
2. Neteja d'objectius
L'objectiu de la neteja de l'objectiu és eliminar la pols o la brutícia que hi pugui haver a la superfície de l'objectiu.
3. Instal·lació de destinació
El més important a què cal prestar atenció durant el procés d'instal·lació del material objectiu és garantir una bona connexió tèrmica entre el material objectiu i la paret de refrigeració de la pistola de pulverització.Si la paret de refrigeració o la placa posterior està molt deformada, pot provocar esquerdes o flexió durant la instal·lació del material objectiu.La transferència de calor des de l'objectiu posterior al material objectiu es veurà molt afectada, donant lloc a la incapacitat de dissipar la calor durant la polverització i, finalment, a l'esquerdament o la desviació del material objectiu.
4. Inspecció de curtcircuit i segellat
Després de la instal·lació del material objectiu, cal comprovar el curtcircuit i el segellat de tot el càtode.Es recomana utilitzar un ohmímetre i un megòhmetre per determinar si el càtode està curtcircuitat.Després de confirmar que el càtode no està curtcircuitat, es pot realitzar una detecció de fuites injectant aigua al càtode per determinar si hi ha alguna fuita.
5. Objectiu del material abans de la catòfora
Es recomana utilitzar gas argó pur per a la polverització prèvia del material objectiu, que pot netejar la superfície del material objectiu.Es recomana augmentar lentament la potència de pulverització durant el procés previ a la catòdicació del material objectiu.La potència del material objectiu ceràmic
Hora de publicació: 19-octubre-2023