Hem d'estar molt familiaritzats amb l'objectiu ara, ara el mercat objectiu també està augmentant, el següent és quin és el principal rendiment de l'objectiu de pulverització compartit per l'editor de RSM
La puresa
La puresa del material objectiu és un dels principals índexs de rendiment, ja que la puresa del material objectiu té una gran influència en el rendiment de la pel·lícula fina.Tanmateix, en l'aplicació pràctica, els requisits de puresa dels materials objectiu no són els mateixos.Per exemple, amb el ràpid desenvolupament de la indústria de la microelectrònica, la mida del xip de silici s'ha desenvolupat de 6 ", 8 "a 12" i l'amplada del cablejat s'ha reduït de 0,5um a 0,25um, 0,18um o fins i tot 0,13um.Anteriorment, la puresa del material objectiu del 99,995% pot complir els requisits del procés de 0,35umIC.La puresa del material objectiu és del 99,999% o fins i tot del 99,9999% per a la preparació de línies de 0,18um.
Contingut d'impuresa
Les impureses del sòlid objectiu i l'oxigen i el vapor d'aigua dels porus són les principals fonts de contaminació de la deposició de pel·lícules.Els materials objectiu per a diferents finalitats tenen requisits diferents per a diferents continguts d'impureses.Per exemple, els objectius d'alumini pur i d'aliatge d'alumini utilitzats a la indústria de semiconductors tenen requisits especials pel que fa al contingut de metalls alcalins i elements radioactius.
La densitat
Per reduir la porositat del sòlid objectiu i millorar el rendiment de la pel·lícula de pulverització, normalment es requereix una alta densitat de l'objectiu.La densitat de l'objectiu no només afecta la velocitat de pulverització sinó també les propietats elèctriques i òptiques de la pel·lícula.Com més gran sigui la densitat de l'objectiu, millor serà el rendiment de la pel·lícula.A més, augmentar la densitat i la força de l'objectiu fa que l'objectiu suporti millor l'estrès tèrmic en el procés de pulverització.La densitat també és un dels índexs clau de rendiment de l'objectiu.
La mida del gra i la distribució de la mida del gra
L'objectiu sol ser policristalí amb una mida de gra que va des del micròmetre fins al mil·límetre.Per al mateix objectiu, la velocitat de pulverització de l'objectiu amb grans petits és més ràpida que la de l'objectiu amb grans grans.La distribució del gruix de les pel·lícules dipositades per objectiu de sputtering amb una diferència de mida de gra més petita (distribució uniforme) és més uniforme.
Hora de publicació: 04-agost-2022