Materials especials rics Co., Ltd.Subministreu objectius de pulverització de zirconi d'alta puresa amb la densitat més alta possible i les mides mitjanes de gra més petites possibles per al seu ús en aplicacions òptiques i de visualització de semiconductors, deposició química de vapor (CVD) i deposició física de vapor (PVD).Els nostres objectius estàndard de sputtering per a pel·lícula fina estan disponibles monobloc o enllaçats amb dimensions i configuracions d'objectius planars de fins a 820 mm amb ubicacions de perforació i roscat, bisellat, ranures i suport dissenyats per funcionar tant amb dispositius de sputtering més antics com amb els darrers equips de procés. com ara el recobriment de grans superfícies per a l'energia solar o les piles de combustible i aplicacions de xip giratori.També es produeixen objectius de mida de recerca, així com mides i aliatges personalitzats.Tots els objectius s'analitzen mitjançant les tècniques millor demostrades, inclosa la fluorescència de raigs X (XRF).
Hora de publicació: maig-03-2023