1. Mètode de polverització de magnetrons:
La pulverització de magnetrons es pot dividir en pulverització de CC, pulverització de freqüència mitjana i pulverització de RF.
R. La font d'alimentació de pols de corrent continu és barata i la densitat de la pel·lícula dipositada és baixa.En general, les bateries fototèrmiques domèstiques i de pel·lícula prima s'utilitzen amb poca energia, i l'objectiu de la polverització és un objectiu de metall conductor.
B. L'energia de RF és alta i l'objectiu de sputtering pot ser un objectiu no conductor o un objectiu conductor.
C. L'objectiu de pulverització de freqüència mitjana pot ser un objectiu de ceràmica o un objectiu metàl·lic.
2. Classificació i aplicació de dianes de sputtering
Hi ha molts tipus d'objectius de sputtering, i els mètodes de classificació d'objectius també són diferents.Segons la forma, es divideixen en blanc llarg, blanc quadrat i blanc rodó;Segons la composició, es pot dividir en objectiu metàl·lic, objectiu d'aliatge i objectiu compost ceràmic;Segons els diferents camps d'aplicació, es pot dividir en objectius ceràmics relacionats amb semiconductors, enregistrament d'objectius ceràmics mitjans, objectius ceràmics de visualització, etc. Els objectius de pulverització s'utilitzen principalment en indústries electròniques i de la informació, com ara la indústria d'emmagatzematge d'informació.En aquesta indústria, s'utilitzen dianes de sputtering per preparar productes de pel·lícula fina rellevants (disc dur, capçal magnètic, disc òptic, etc.).Al present.Amb el desenvolupament continu de la indústria de la informació, la demanda d'enregistrament d'objectius ceràmics mitjans al mercat està augmentant.La investigació i la producció d'objectius de suport de gravació s'ha convertit en el focus d'una àmplia atenció.
Hora de publicació: 11-maig-2022