Les esquerdes a les dianes de pulverització es produeixen generalment en dianes de ceràmica, com ara òxids, carburs, nitrurs i materials trencadissos com el crom, l'antimoni i el bismut.Ara deixeu que els experts tècnics de RSM expliquin per què s'esquerda l'objectiu de pols i quines mesures preventives es poden prendre per evitar aquesta situació.
Els objectius de ceràmica o material trencadís sempre contenen tensions inherents.Aquestes tensions internes es generen en el procés de fabricació objectiu.A més, aquestes tensions no s'eliminen completament pel procés de recuit, perquè són característiques inherents a aquests materials.En el procés de pulverització, el bombardeig d'ions gasosos transfereix el seu impuls als àtoms objectiu, proporcionant-los prou energia per separar-los de la xarxa.Aquesta transferència de moment exotèrmic fa que la temperatura objectiu augmenti, que pot arribar als 1000000 ℃ a nivell atòmic.
Aquests xocs tèrmics augmenten moltes vegades l'estrès intern existent a l'objectiu.En aquest cas, si la calor no es dissipa correctament, l'objectiu pot trencar-se.Per evitar que l'objectiu s'esquerde, s'ha de posar èmfasi en la dissipació de calor.Es requereix un mecanisme de refrigeració per aigua per eliminar l'energia tèrmica no desitjada de l'objectiu.Un altre tema a tenir en compte és l'augment de potència.S'aplica massa potència en poc temps també provocarà un xoc tèrmic a l'objectiu.A més, suggerim lligar aquests objectius a la placa posterior, que no només pot proporcionar suport per a l'objectiu, sinó que també pot promoure un millor intercanvi de calor entre l'objectiu i l'aigua.Si l'objectiu té esquerdes però està unit a la placa posterior, encara es pot utilitzar.
Rich Special Materials Co., Ltd. pot proporcionar objectius de sputtering amb placa posterior.Es pot personalitzar segons els requisits de material, gruix i tipus d'enllaç dels clients.
Hora de publicació: 21-set-2022