El consultor tècnic de RSM compartirà amb vosaltres els avantatges dels objectius cilíndrics i planars de pols de magnetrons?En comparació amb altres objectius de sputtering de magnetrons, els objectius de sputtering de magnetrons cilíndrics i planars conserven els avantatges d'una bona uniformitat de recobriment dels objectius planars rectangulars i poden maximitzar la utilització dels objectius mitjançant les dues maneres següents:
(1) Quan els dos grups (quatre) de fosses anulars a la superfície de l'objectiu arriben a una certa profunditat, el nucli de l'objectiu (part de l'imant) es pot girar 45 ° en relació amb el tub objectiu, de manera que altres àrees del tub objectiu que no s'han corroït es poden utilitzar;
(2) Quan el nucli objectiu de l'objectiu cilíndric i planar de pols de magnetró està dissenyat com un nucli d'objectiu giratori (el nucli objectiu gira durant la polverització), la superfície de l'objectiu es pot escampar de manera uniforme capa per capa sense forats.En aquest moment, l'objectiu s'utilitzarà de manera més eficaç i la taxa d'utilització de l'objectiu pot arribar al 50% ~ 60% Quan el material objectiu és un metall preciós, això és òbviament de gran importància.
Mitjançant l'ús del principi de l'imant amb sabata polar en un objectiu de polverització de magnetrons cilíndrics coaxials per resoldre el problema del camp magnètic final, l'objectiu de pla rectangular es pot transformar en un objectiu de polverització de magnetrons cilíndrics i plans, l'objectiu pot maximitzar la taxa d'utilització de l'objectiu. mantenint la bona uniformitat de recobriment de l'objectiu del pla rectangular per millorar els beneficis econòmics.
Hora de publicació: Jul-04-2022