Benvinguts als nostres llocs web!

FeNi Sputtering Target Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida

Níquel de ferro

Descripció breu:

Categoria

Objectiu de pulverització d'aliatges

Fórmula química

NiFe

Composició

Níquel de ferro

Puresa

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Plaques, objectius de columna, càtodes d'arc, fets a mida

Procés de producció

Fusió al buit, PM

Talla disponible

L≤2000mm,W≤300mm


Detall del producte

Etiquetes de producte

Iron Nickel Sputtering Target es fabrica mitjançant fusió al buit, fosa i PM.Té una permeabilitat magnètica molt alta a baixa intensitat de camp.

Un objectiu de ferro níquel (níquel> 30% en pes) demostra l'estructura cúbica centrada en la cara a temperatura ambient.Els objectius convencionals de ferro de níquel tenen més d'un 36% de composició de níquel i es poden dividir en quatre categories: 35% ~ 40% Ni-Fe, 45% ~ 50% Ni-Fe, 50% ~ 65% Ni-Fe i 70% ~81% Ni-Fe.Cadascun es podria convertir en materials amb bucles d'histèresi magnètic circulars, rectangulars o plans.

Les dianes de níquel ferro (Ni-Fe) s'utilitzen en una àmplia gamma d'aplicacions, per exemple, suports d'emmagatzematge magnètic i dispositius de blindatge EMI.

Rich Special Materials s'especialitza en la fabricació d'objectius de sputtering i podria produir materials de sputtering de níquel de ferro segons les especificacions dels clients.Podríem subministrar una puresa del 99,99% i les nostres composicions típiques: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.Per a més informació, poseu-vos en contacte amb nosaltres.


  • Anterior:
  • Pròxim: