Objectiu de pulverització d'aliatge CoFeV Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida

Cobalt Iron Vanadium sputtering objectiu té un 52% de contingut de cobalt, 9% -23% de contingut de vanadi i la resta - material dúctil i magnètic permanent.Presenta una excel·lent capacitat de deformació plàstica i es pot fabricar en components amb formes complicades.

L'objectiu de pulverització d'aliatge de cobalt i vanadi té una densitat de flux de saturació extremadament alta Bs (2,4 T) i una temperatura de Curie (980 ~ 1100 ℃).Pot ajudar amb la reducció de pes i pot millorar l'estabilitat a temperatures elevades.És un material adequat per a aparells elèctrics d'aviació (petites màquines elèctriques especials, electroimant i relé elèctric).També té un alt coeficient de magnetostricció de saturació i podria produir un transductor magnetoestrictiu.

Rich Special Materials s'especialitza en la fabricació d'objectius de sputtering i podria produir materials de cobalt iron vanadium sputtering segons les especificacions dels clients.Per a més informació, poseu-vos en contacte amb nosaltres.